激光技术

《激光技术》（双月刊）创刊于1971年，由中国兵器工业集团有限公司主管、向国内外公开发行的重要学术性刊物。《激光技术》紧密跟踪国内外高技术的进展和开拓性新领域的动态，主要报道国内外与激光有关的光学、电子学等领域内不同发展时期的新材料、新工艺、新技术、新元件、新的工程应用中有创新的学术论文和有创见的综述性文章。记录、推广、宣传、交流我国激光技术研究开发和应用的成就，为我国科学研究、教学、生产及应用实时地提供最新信息。现设有专栏如下：综述与评述；激光物理与激光器件；激光材料与光学元件；光电对抗与强激光技术；光通信与光信息技术；光生物学与医学光子学、激光与光电子技术应用；简讯。包括激光器件、激光材料、非线性光学、超快光学、光通信、激光物理、激光测量与光传感技术、全息、光电对抗、信息光学、薄膜、集成光学与光子晶体、光存储、生物医学光子学、纳米光学技术、激光大气传输与遥感、新型光子器件、激光加工等内容。主要栏目：综述与评述、激光材料与光学元件、激光物理与激光器件、激光与光电子技术应用、光通信与光信息技术。[隐藏部分]

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本刊是专业性很强的学术刊物，本刊强调的是稿件思想的学术创新性和内容的实用价值，请作者投稿时注意，以免错投。

一．本刊栏目

现设有专栏如下：综述与评述；光子学前沿技术；激光物理、材料与器件；光通信与光信息技术；光生物学与医学光子学；激光与光电子技术应用；光电对抗与强激光技术；简讯。包括激光器件、激光材料、非线性光学、超快光学、光通信、激光物理、激光测量与光传感技术、全息、光电对抗、信息光学、薄膜、集成光学与光子晶体、光存储、生物医学光子学、纳米光学技术、激光大气传输与遥感、新型光子器件、激光加工等内容。

凡与激光有关的光学、电子学等领域内的新材料、新工艺、新技术、新元件、新的工程应用中有创新的，代表我国研究水平的学术论文，有科学依据和可靠数据的技术报告，阶段性成果报告，以及属于前沿学科，并对学科发展有指导意义的展望评论性文稿，均可向本刊投稿。

二．稿件总体要求

（1）作者应保证拥有合法的著作权。合作的论文，署名须征得合作者的同意。来稿作者署名顺序一经确定，请勿任意删改。若因著作权而引起争议，本刊不承担责任。

（2）来稿不得涉及国家机密，凡涉及作者单位工作内容者，须有本单位出具可公开发表的证明。

（3）来稿应重点突出作者本人的创新部分，必须是在中外文正式刊物上未发表的论文。引用文献应是公开出版物，以便审者、编辑、读者查证，并在文中明确标引。

（4）本刊严禁一稿多投、重复内容多次投稿、不同文种重复投稿以及抄袭！一旦发现上述情况，稿件将按退稿处理，并将通告作者单位及同类期刊。作者本人的稿件今后将不被录用。学生投稿须经导师同意。

（5）在学术会议上仅宣读交流过的文稿，不属于一稿多投；但已收入会议文集正式出版的，请勿投递本刊重复发表，否则，一旦发现，将按照一稿多投/一稿多发情形进行处理。

（6）文章请用公开发表的文章作为参考文献。

（7）创新性说明请置于文稿的最后一页。

（8）为了加快评审进度，请推荐相关领域的审稿专家（姓名，通信地址，研究方向，email，电话）作为参考，放置于投稿界面中的‘备注’中。

（9）请将处理好的文稿的电子文件（.doc或pdf格式）进行上传，文件不宜过大。

（10）投稿格式等稿件具体要求可以参见我刊“征稿简则”和“论文模板”，链接分别如下：http://www.jgjs.net.cn/CN/column/item97.shtml；http://www.jgjs.net.cn/download/lwmb.doc

三．稿件流程

（1）投稿：网络远程投稿。请登录本刊网站；投稿成功后E-mail回执。

（2）收稿：编辑收稿。为稿件分配稿号，并由E-mail发送稿号等信息。

（3）初审：编辑初审。通过后送外审；否则直接退稿（无需缴纳审稿费）。

（4）外审：送2名专家进行外审。

（5）终审：主编终审。结合外审意见给出最终结果：录用；改后复审；退稿。

（6）编辑：对录用稿件进行编辑、加工、校对、出版发行。

四．投稿方法

投稿时，请登录我刊《激光技术》网站（http://www.jgjs.net.cn），点击“作者投稿”后注册投稿。具体格式请参见“作者中心”的“论文模板”。如投稿成功3日后未收到回执的，请及时查询，以免遗漏。E-mail：jgjs@vip.163.com；jgjs@sina.com。作者可凭收稿通知单中提供的用户名和密码登陆“作者查稿”，随时在网上查询稿件的处理情况。

五．编辑部对稿件的处理

（1）如发现抄袭、剽窃、侵权等不良行为，本刊将据实通知作者所在单位的最高领导层，并不再接受第一作者的投稿。

（2）稿件审稿周期一般为3周~3个月，个别稿件可能送审时间较长。作者可同时提供多位国内外同行专家的详细通讯方式和研究领域，供送审时参考。本刊出版周期为9~12个月。

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