背钝化多晶电池工艺中通常使用各种化学品，采用链式设备对硅片进行清洗、制绒等处理，以达到后续的外观、洁净度等工艺要求。背钝化多晶电池生产中，需要对多晶硅片进行多次化学品处理。多晶制绒工艺在生产顺序的上游完成，接着再进行背面钝化、清洗等工艺时，如果多晶硅片正面没有进行有效保护，就会对多晶硅片的绒面结构造成破坏，不仅影响成品电池片正面外观，同时也影响电池片转换效率和质量检测。本文优化了原有的旧制绒工艺，通过改变不同刻蚀工艺时的化学品配比、减重量、反射率等，既可以对硅片进行有效清洗，同时也能避免对硅片外观造成破坏，调试出了适合背钝化多晶电池湿法刻蚀处理的工艺流程与控制参数。