为解决某水电站地下厂房中导洞顶拱开挖光面爆破效果差、半孔率低、平整度不好的问题,爆破工程技术人员深入施工现场,查找原爆破方案及钻爆作业过程中存在的问题,分析原方案取得的光爆效果及产生的原因,提出相应的改进思路；通过一系列光面爆破实验,确定合理的光爆参数：周边孔间距45cm、周边孔抵抗线55cm～60cm、孔内装药间隔62.5cm～66.0cm、线装药密度120g/m～135g/m,同时为整个地下厂房开挖初步确定可供参考的光爆参数。实验结果表明：对于较完整的Ⅲ类以上围岩,只要选择合理的光面爆破参数,精细化钻孔爆破作业,光面爆破半孔率均能达到90%以上,平均径向超挖值均能控制在规范要求范围内。