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ITO靶材制备的发展及现状
摘 要:
ITO靶材通常用于制作透明导电薄膜,是半导体光伏、LCD/OLED显示器等领域不可或缺的原材料。文章综合评述了ITO靶材制备技术现状,介绍了其常规制备方法,如ITO纳米粉体制备、成型技术、烧结技术、靶材绑定焊接技术等ITO靶材制备工艺,并分析了各工艺的优点和缺点,提出了高品质ITO靶材制备技术的研究方向。
作 者:
  • 张倍维;黄誓成;陆映东;宋春华;
单 位:
    广西晶联光电材料有限责任公司
关键字:
  • ITO靶材;制备;烧结;
页 码:
    26-28
出 处:
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