新型XCDA纯化器纯化后的10N超高纯压缩空气,广泛应用于集成电路12寸14～28nm高端产线及第三代半导体等新兴领域,是半导体核心ASML光刻机生产中主要使用的气体之一。研发主要分为三部分,纯化器工艺设计、纯化器外观设计、纯化器自控系统设计。该纯化器采用两塔～四塔工作方式,改良大容量吸附剂,可抵抗原料气杂质波动,全自动设计,完善的报警连锁功能,保障设备安全运行,实现无人值守,工程师可进行现场及远端控制。